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等離子去膠機是怎么去除光刻膠的？
來源: | 作者:金徠等離子處理設(shè)備 | 發(fā)布時間: 1144天前 | 1348 次瀏覽 | 分享到:
等離子去除光刻膠，一般要用到等離子去膠機，它是專業(yè)等離子去除光刻膠的機械設(shè)備，等離子去除光刻膠的工作方法是：

目前市場上所有的去膠方式中，用等離子去膠是相對簡單的一種。

等離子去除光刻膠，一般要用到等離子去膠機，它是專業(yè)等離子去除光刻膠的機械設(shè)備，等離子去除光刻膠的工作方法是這樣的：

等離子去膠機通過把O?變成氧原子的等離子，然后把氧原子和抗腐蝕劑中的C原子及H原子快速反應。生成CO、CO?和H?O三種化合氣體。最后順流去膠臺中進行去除光刻膠。

金徠等離子去膠機，可以實現(xiàn)半導體去除光刻膠、殘膠，以及線路板的殘膠；在去膠過程中對器件損傷低，可以一次性解決用戶的需求。 

以上為等離子去除光刻膠的工作方法，如有疑問，詳詢：13538058187（微信同號）